当光学表面精度要求进入亚埃级时代，普通微米级抛光液已无法满足极限加工的需求。QMAXIS（可脉）ULTRAPOLISH系列第四段纳米氧化铈抛光悬浮液登场亮相！第四段0.075μm（75nm）以先进的粒径控制技术，专为超精抛（Super-Polishing）场景打造，将光学表面粗糙度推向1Å以下的高水平。

  一、产品定位：纳米级超精抛主力产品

  0.075μm氧化铈抛光悬浮液是QMAXIS（可脉）ULTRAPOLISH系列中细粒径规格，是整套阶梯抛光工艺的第四段终抛耗材。

  依托QMAXIS北美联盟多年微粉超微分级技术积累，对粒径小、分布均匀的氧化铈颗粒实现有效控制。0.075μm的产品专为超光滑表面抛光开发，可实现1Å以下的表面粗糙度，同时满足极低的划痕/凹坑指标要求，性能达到半导体STI CMP工艺标准。以SQC/SPC质量方法与自动化工艺控制确保批次间高度一致。

  二、核心优势

  1. 先进的纳米级粒径控制

  0.075μm（75nm）超细粒径，具有粒径小、分布窄的特征，是面向光学元件抛光的商用氧化铈抛光悬浮液。这是超微粉体领域的杰作，每一颗氧化铈磨料都经过精确分级，有效抑制大颗粒异常划伤风险，为超光滑表面提供基础保障。

  2. 亚埃级超光滑表面

  在熔融石英、光学玻璃、微晶玻璃等材料上可稳定实现1Å以下的表面粗糙度，达到超精抛（Super-Polishing）水准。配合抛光垫、沥青或多孔聚合物抛光布使用，可获得近乎原子级平整的光学表面，满足高端光学系统对散射、波前误差的严苛指标要求。

  3. 满足半导体制备应用要求

  产品性能达到半导体STI CMP工艺标准，纯度、粒径控制、批次稳定性均满足半导体制造的严苛要求。不仅适用于光学领域，同样可用于半导体衬底、MEMS器件等高端电子材料的超精密抛光。

  4. 严格品控，批次高度一致

  全生产流程采用SQC/SPC统计质量控制方法与自动化工艺管控。每批次产品性能高度可重复，避免因抛光液波动导致的工艺调试成本，是高端研发与量产产线的可靠选择。

  三、典型应用场景

  ●  高端光学元件超精抛（Super-Polishing）

  ●  熔融石英、玻璃、微晶玻璃、激光晶体超光滑表面制备

  ●  半导体STI CMP工艺、光学衬底抛光

  ●  MEMS器件、精密光学微结构超精加工

  ●  配合抛光垫、沥青或多孔聚合物抛光布使用

  ●  环境温度：储存4 °C – 33 °C，短期0 °C – 38 °C ，使用时保持产品恢复室温

  ●  使用前摇匀

  ●  开盖即用型（Ready-to-Use）

  可脉检测（QMAXIS）作为美国QMAXIS LLC在中国的独资企业，为国内实验室与工业客户提供ULTRAPOLISH系列氧化铈抛光悬浮液。第四段0.075μm氧化铈抛光悬浮液1加仑包装，产品编号PC-0.075-128。

  0.075μm氧化铈抛光悬浮液，助力您打造优质超光滑抛光表面，增强产品竞争优势！

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