在光学玻璃、熔融石英、微晶玻璃等精密元件的粗抛工序中，去除效率与表面质量的平衡始终是核心痛点。美国QMAXIS凭借北美联盟众多用户的实践检验，筛选出来了四段适用于光学材料抛光的成熟工艺方案。其中，1.15μm氧化铈抛光悬浮液，专为大余量快速去除环节打造，是粗抛工序的优化解决方案。

  一、产品定位：高效率粗抛

  ULTRAPOLISH系列是QMAXIS旗下久经验证的四段适用于光学材料氧化铈抛光悬浮液。

  第一段工艺：粗抛，采用ULTRAPOLISH系列的1.15μm中位粒径高纯度氧化铈磨料，搭配稳定的悬浮体系，可在保障表面完整性的前提下，达到用户所期待的材料去除率，快速消除前道工序留下的划痕与亚表面损伤，为后续进一步精抛奠定良好基础。

  二、核心优势

  1. 高效率去除，大幅缩短粗抛周期

  1.15μm优化粒径设计，兼顾去除效率与表面损伤控制。相较于更细粒径的氧化铈抛光液，该粒径方案优势突出，可实现更高的材料去除率，大幅缩短粗抛工时，优化产线整体节拍。

  2. 粒径集中度高，亚表面损伤可控

  QMAXIS 氧化铈抛光液之所以收获北美联盟用户广泛认可，核心优势在于磨料分级管控。氧化铈磨料采用严苛分级工艺，颗粒尺寸分布窄且均匀，可有效规避大颗粒造成的异常划伤。在高效率去除材料的同时，将亚表面损伤层控制在较低区间，减少后续精抛加工余量。

  3. 即用型配方，开箱即用

  15%固含量即用型配方（Ready-to Use），无需现场调配，开盖即可直接使用。先进的悬浮化学体系确保磨料均匀分散，长时间使用不易沉降，抛光过程稳定一致。

  4. 美国原厂品质，批次稳定可靠

  ULTRAPOLISH系列由美国生产基地生产，每批次产品均经过SPC统计过程控制，确保批次间性能一致，减少工艺调试成本。

  三、典型应用场景

  ●  适用于光学玻璃、玻璃陶瓷、光学电子元器件、宝石等材料

  ●  适合与各种抛光垫或合成材料配合使用

  ●  适用于批量生产和集中供液循环系统

  ●  适合根据自身材料特点，现场调节浓度使用

  ●  兼顾去除效率和表面完整性的步骤

  ●  环境温度：储存4 °C – 33 °C，短期0 °C – 38 °C ，使用时保持产品恢复室温

  ●  使用前摇匀

  四、核心技术参数

  可脉检测（QMAXIS）作为美国QMAXIS LLC在中国的独资企业，为国内实验室与工业客户提供ULTRAPOLISH系列氧化铈抛光悬浮液。第一段的1.15μm氧化铈抛光悬浮液1加仑包装，产品编号PC-1.15-128。5加仑与55加仑装可供。

  如果您想了解其它三段适用于光学材料氧化铈抛光悬浮液，请随时联系我们：可脉检测（南京）有限公司，电话：186-0255-6086 或025-8776-3131，邮箱：info@qmaxis.cn。

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